4분기 연구개발비 최대 7조5500억원…설비투자에 53조1000억원 투입
반도체 불황으로 대규모 적자 발생했지만…초격차 기술 확보는 지속

삼성전자 서초사옥 전경. /사진=삼성전자
삼성전자 서초사옥 전경. /사진=삼성전자

[데일리임팩트 이승석 기자] 삼성전자가 지난해 영업이익이 85% 감소했지만 적극적인 투자를 이어간 것으로 나타났다. 반도체, 디스플레이에 집중 투자 했는데 해당 분야에서 첨단 기술력을 강화, 초격차를 달성하겠다는 의지가 읽힌다. 

31일 삼성전자에 따르면, 지난해 53조1000억원을 설비투자에 썼다. 전년과 동일한 수준이다. 4분기로 좁혀봐도 삼성전자는 공격적 투자 기조를 이어갔다. 4분기 설비투자 규모는 16조4000억원으로 DS는 14조9000억원, 디스플레이엔 8000억원이 투입했다. 같은 기간 DS부문에서 2조1800억원의 영업손실이 발생한 데 이어 VD에서도 TV 시장 정체와 경쟁 심화에 따른 제반 비용 증가로 수익성이 감소했다. 하지만 경쟁 우위를 이어가기 위해 선제적 투자에 나섰다. 

이러한 경향은 DS 부문에서 두드러졌다. 메모리의 경우 지난해 1, 2분기에 이어 4분기에도 중장기 수요 대응을 위한 클린룸 확보 목적의 평택 3기 마감, 첨단공정 수요 대응을 위한 4기 인프라 투자 등이 진행됐다. HBM·DDR5 등 첨단공정 생산 능력 확대와 후공정 투자도 지속했다. 파운드리는 극자외선(EUV)를 활용한 5나노 이하 첨단공정 생산 능력 확대, 미래 수요 대응을 위한 미국 테일러 공장 인프라 투자로 전년 대비 연간 투자가 증가했다.

디스플레이에서는 유기발광다이오드(OLED)와 플렉시블 제품을 중심으로 투자가 진행됐다.

연구개발(R&D)에도 '진심'이었다. 4분기 R&D 투자액은 7조5500억원으로 1분기(6조5800억원), 2분기(7조2000억원)에 이어 역대 최대치를 경신했다.

삼성전자는 올해 메모리 시황과 IT 수요 회복이 기대되는 만큼 첨단공정 경쟁력을 강화하고 미래기술 준비도 병행한다는 방침이다. 미래 경쟁력 확보를 위한 시설투자와  R&D 투자를 꾸준히 이어갈 것이라고 밝혔다. 파운드리에서도 3나노 GAA 공정을 안정적으로 양산하고 2나노 공정 개발 등 첨단공정 개발을 지속하면서 AI 가속기 등 빠르게 성장하는 응용처 수주를 확대할 방침이다.

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